質(zhì)量流量控制器MFC P系列

P 系列 MFC 質(zhì)量流量控制器是一款在氣體流量控制領域具有高性能和可靠性的設備。以下是關(guān)于它的一些特點和應用方面的介紹：采用 改進單閥 + 壓差 + 位置傳感 設計 測量精度 ±?.?% S.P. (??% - ???% F.S.) 響應速度≤???ms(??% - ???% F.S.)。

特點

• 高精度控制：采用先進的傳感技術(shù)和控制算法，能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的氣體質(zhì)量流量控制，可將測量誤差控制在較低水平，滿足各種對流量精度要求較高的工藝需求2。

• 快速響應：具備較短的響應時間，能夠迅速對流量設定值的變化做出反應，快速調(diào)整氣體流量，確保工藝過程的穩(wěn)定性和一致性2。

• 寬量程范圍：量程覆蓋范圍廣，可適用于從微小流量到較大流量的不同應用場景，能滿足多種工藝對氣體流量大小的不同要求2。

• 多氣體兼容：內(nèi)置多種氣體數(shù)據(jù)庫，支持多種不同類型的氣體，無需復雜的人工設置和轉(zhuǎn)換，可方便地切換不同氣體進行流量控制2。

• 良好的環(huán)境適應性：采用優(yōu)質(zhì)的材料和設計，具有較好的耐腐蝕性和抗干擾能力，能在不同的環(huán)境條件下穩(wěn)定工作，適應多種工業(yè)環(huán)境2。

• 便捷的操作與通信：配備直觀的操作界面，方便用戶進行參數(shù)設置和監(jiān)控，同時支持多種通信協(xié)議，可輕松與上位機或其他控制系統(tǒng)集成，實現(xiàn)遠程操作和自動化控制。

應用領域

• 半導體制造：在半導體工藝中，如刻蝕、化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）等過程中，精確控制各種工藝氣體的流量，對于保證芯片制造的質(zhì)量和一致性至關(guān)重要。例如，在刻蝕工藝中，精確控制四氟化碳、六氟化硫等刻蝕氣體的流量，確?？涛g反應按預定速率和方向進行；在 CVD 工藝中，精準控制硅烷、氨氣等反應氣體的流量，以保證沉積薄膜的化學成分、厚度和質(zhì)量達標。

• 生物醫(yī)藥：在藥物研發(fā)、生物發(fā)酵等領域，用于精確控制各種氣體的流量，如細胞培養(yǎng)過程中控制氧氣、二氧化碳等氣體的供應比例，以營造適宜的細胞生長環(huán)境；在藥物生產(chǎn)中，對微量試劑氣體的精確添加也需要高精度的 MFC 來實現(xiàn)。

• 化工生產(chǎn)：在化工合成、精細化工等過程中，用于控制各種反應氣體和原料氣體的流量，確?；瘜W反應的順利進行和產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定。例如，在一些有機合成反應中，精確控制氫氣、氮氣等氣體的流量，以調(diào)節(jié)反應的速率和選擇性。

• 新能源：在新能源領域，如燃料電池的生產(chǎn)和測試過程中，需要精確控制氫氣、氧氣等氣體的流量，以保證燃料電池的性能和穩(wěn)定性；在太陽能電池的制造過程中，也會用到 MFC 來控制相關(guān)工藝氣體的流量